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Picosun-Sprinter

應(yīng)用領(lǐng)域:

電子裝配

半導(dǎo)體


PICOSUN?R-200標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng)是一款 研發(fā)型產(chǎn)品,應(yīng)用領(lǐng)域廣泛,例如:電子 元器件, MEMS器件、顯示器、發(fā)光二極 管、激光器以及透鏡、光學(xué)部件、珠寶、硬 幣、醫(yī)療植入物等3D部件。

主要優(yōu)點(diǎn)

 

               主要優(yōu)點(diǎn)
                  PICOSUN?R-200標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng)是ALD科研
                  設(shè)備市場的領(lǐng)導(dǎo)者。它已經(jīng)成為一些創(chuàng)新公司
                  和研究機(jī)構(gòu)的必備研發(fā)工具。
                  靈活的設(shè)計確保沉積高質(zhì)量的ALD薄膜,超
                  靈活的系統(tǒng)配置也能滿足用戶未來的需求和
                  應(yīng)用。專利的熱壁設(shè)計、完全獨(dú)立的前驅(qū)體管
                  路和特殊的載氣設(shè)計,使得無顆粒沉積廣泛
                  應(yīng)用于平面晶圓、3D基片和所有納米尺度的
                  材料。即使在最具挑戰(zhàn)性的多孔材料、超高深
                  寬比和納米顆粒表面沉積,系統(tǒng)都能實(shí)現(xiàn)極
                  好的均勻性,這些都?xì)w功于我們的專利技術(shù)
                  Picoflow?。Picosun?R-200標(biāo)準(zhǔn)型系統(tǒng)配備功
                  能強(qiáng)大和易于更換的液體、氣體和固體前驅(qū)體
                  源。系統(tǒng)可集成手套箱,粉末反應(yīng)腔和各種在
                  線分析系統(tǒng),使您的研究變得高效和靈活。即
                  使將來您改變研究領(lǐng)域,它仍然會是您最好
                  的幫手!

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